N - টাইপ সিলিকন সোলার সেল

আমাদের এন - টাইপ সিলিকন সোলার সেল প্রযুক্তি আল্ট্রা - খাঁটি ফসফরাস - ডোপড সিলিকনকে 0.5PPMA এর নীচে অক্সিজেনের মাত্রার নীচে ডোপড সিলিকন ব্যবহার করে, কার্যকরভাবে হালকা {{}}}}}} সম্পর্কিত কর্মক্ষমতা (এলআইডি) অবসন্নতা (এলআইডি) হ্রাস করে। মালিকানাধীন কোয়ান্টাম প্যাসিভেশন স্তরটি একটি ন্যানোস্কেল কাঠামোর মধ্যে আলোও, সিনা এবং টিওকে একত্রিত করে যা পৃষ্ঠের পুনঃসংযোগের ক্ষতিগুলি 0.8% - এর অধীনে 2-3% শিল্পের মানের তুলনায় উল্লেখযোগ্যভাবে ভাল।

3 ডি ইন্টারডিজিটেড ব্যাক যোগাযোগের নকশায় লেজার - এচেড উল্লম্ব চ্যানেলগুলি বৈশিষ্ট্যযুক্ত যা প্রচলিত আইবিসি কোষের তুলনায় চার্জ সংগ্রহকে 18% বাড়িয়ে তোলে। এই অগ্রগতিটি কেন এন - টাইপ সিলিকন সৌর কোষ প্রযুক্তি শিল্পকে নেতৃত্ব দেয় তা বোঝায়। আমরা গ্রাফিন - বর্ধিত পরিচিতিগুলিও বিকাশ করেছি যা সাধারণত ব্যবহৃত রৌপ্যের 90% প্রতিস্থাপন করে, একটি অতি -} কম যোগাযোগের প্রতিরোধের মাত্র 0.6MΩ · সেমি ² অর্জন করে ²

আমাদের উত্পাদন প্রক্রিয়া অন্তর্ভুক্ত:

● এআই - অনুকূলিত স্ফটিক বৃদ্ধি যা 2 পিপিএমএর নীচে অক্সিজেনের অমেধ্য রাখতে চৌম্বকীয় ক্ষেত্রগুলিকে গতিশীলভাবে সামঞ্জস্য করে

● প্লাজমা - ভিত্তিক পৃষ্ঠের টেক্সচারিং যা 300-1200nm বর্ণালী জুড়ে 99% এরও বেশি আলোকে ক্যাপচার করে

চ্যালেঞ্জিং পরিবেশের জন্য, আমরা অফার:

• আর্টিক - ইন্টিগ্রেটেড হিটিং সহ 85%+ দক্ষতা -60 ডিগ্রি বজায় রাখতে অনুকূলিত সংস্করণগুলি
• স্পেস - গ্রেড মডিউলগুলি বিকিরণ - 30 বছরের কক্ষপথের মিশনের জন্য কঠোর করা হয়েছে